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작성일 : 18-08-03 09:52
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[특허] 웨이퍼 척 테이블용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법
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출원자 : 곽도혁
 조회 : 2,050 |
| 출원번호 : 1020180034900 |
| 출원일자 :
20180327 |
| 등록번호 :
101878123 |
| 등록일자 : 20180706 |  1020180034900B1.pdf (436.2K) [0] DATE : 2018-08-03 09:52:44 |
본 발명은 웨이퍼 척 테이블(wafer chuck table)용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법
에 관한 것으로, 반도체 제조공정에서 웨이퍼 척 표면에 증착된 오염물을 비-파괴적이면서도 효과적으로 제거 가
능한 웨이퍼 척 테이블용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법에 관한 것이다.
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